Opnieuw meer schadelijke stoffen in atmosfeer
05 november 2014 door Eos-redactieOnderzoek van de Université de Liège wijst uit dat er de laatste jaren opnieuw veel waterstofchloride (HCl) zit in de atmosfeer boven het noordelijk halfrond. Die stof lag indertijd aan de basis van het gat in de ozonlaag.
Onderzoek van de Université de Liège wijst uit dat er de laatste jaren opnieuw veel waterstofchloride (HCl) zit in de atmosfeer boven het noordelijk halfrond. Die stof lag indertijd aan de basis van het gat in de ozonlaag.
Even het geheugen opfrissen. In de jaren 1970, ‘80 en ‘90 steeg het aandeel HCl in de atmosfeer sterk. Dat kwam door de massale uitstoot van schadelijke chloorfluorkoolstoffen, die onder meer gebruikt werden bij de fabricage van koelkasten, wasproducten en spuitbussen. In de stratosfeer veranderen die stoffen in HCl, dat de ozonlaag aantast. Na het opstellen van het Montrealprotocol eind jaren 1980, in het leven geroepen ter bescherming van de ozonlaag, daalde het aandeel HCl gestaag.
Maar uit het onderzoek van de Belg Emmanuel Mahieu (Université de Liège) en diens collega’s, die gedetailleerde satellietgegevens analyseerden, blijkt dat HCl-concentraties boven het noordelijke halfrond sinds 2007 opnieuw toenemen, met wel 3,4 procent per jaar. Boven het zuidelijke halfrond, waar de problematiek vroeger het grootst was – vooral boven Antarctica – daalt de concentratie daarentegen.
Volgens Mahieu is die stijging te wijten aan een vertraagde luchtcirculatie in de stratosfeer vanaf 2005, waardoor er in verhoudig meer gassen worden omgezet in HCl. De oorzaak is dus niet, zoals vroeger, de uitstoot van schadelijke gassen. Want anders zou er boven het zuidelijke halfrond ook een stijging zijn.
Mahieu hamert erop dat wetenschappers bij toekomstige studies naar de staat van de ozonlaag meer rekening moeten houden met luchtcirculatie in de aardatmosfeer. De resultaten van het Luikse onderzoek verschenen in Nature. (adw)