Germanaan: het nieuwe grafeen?
15 april 2013 door Eos-redactieAmerikaanse wetenschappers beweren dat ze een materiaal hebben gemaakt dat net als het ‘wondermateriaal’ grafeen betere elektronica kan opleveren, maar veel sneller voor industriële toepassingen beschikbaar zal zijn.
Het is amper één atoomlaag dik, en belooft dankzij een reeks revolutionaire eigenschappen de elektronica voorgoed te veranderen… en het is niet grafeen. Amerikaanse wetenschappers beweren in ACS Nano dat ze een materiaal hebben gemaakt dat net als het ‘wondermateriaal’ grafeen betere elektronica kan opleveren, maar veel sneller voor industriële toepassingen beschikbaar zal zijn.
De onderzoekers van Ohio State University creëerden hun ‘germanaan’ door atoomlaagjes van een germaniumkristal af te pellen, net zoals met grafiet wordt gedaan om grafeen te ‘oogsten’. Het materiaal heeft veel van de revolutionaire geleidingseigenschappen van grafeen, maar is volgens de onderzoekers sneller en goedkoper te ontwikkelen. De halfgeleiderindustrie heeft immers al zestig jaar ervaring met transistoren op basis van germanium.
Germanaan kan heel efficiënt licht absorberen, is onder de 75°C stabieler dan silicium, elektronen gaan er tien keer zo snel doorheen, en na vijf maanden in de buitenlucht is het nauwelijks geoxideerd. (kv)
